Suatu Alat untuk Deposisi Lapisan Tipis Nanopartikel dengan DC- Magnetron Sputtering Tak Seimbang Target Ganda

Djamal, Mitra and Ramli, Ramli (2018) Suatu Alat untuk Deposisi Lapisan Tipis Nanopartikel dengan DC- Magnetron Sputtering Tak Seimbang Target Ganda. IDP000053966.

[img]
Preview
 Text
Paten IDP000053966-2018.pdf
Download (1MB) | Preview
Official URL: https://pdki-indonesia.dgip.go.id/detail/P00201300...

Abstract

Perkembangan teknologi nanopartikel mendorong usaha-usaha berbagai kalangan peneliti dalam fabrikasi dan aplikasi lapisan tipis dalam ukuran nanopartikel. Salah satu parameter yang sangat diperhitungkan adalah ketebalan lapisan tipis yang dihasilkan. Ketebalan tersebut haruslah berada dalam orde jalan bebas rata-rata elektron dalam material. Untuk mampu menghasilkan ketebalan lapisan tipis dalam orde nanometer ini maka diperlukan peralatan penumbuhan yang mendukung. Dalam hal ini telah dibuat suatu peralatan magnetron sputtering tak seimbang target ganda dengan sumber pembangkit plasma dc atau peralatan dc-OTMS. Susunan magnetron tak seimbang berguna untuk menghindari efek pengikisan ulang lapisan tipis yang telah terdeposisi di atas substrat.

Item Type: Patent
Contributors:
ContributionContributorsEmail
AuthorMitra, DjamalUNSPECIFIED
AuthorRamli, RamliUNSPECIFIED
Subjects: Q Science > QC Physics
Divisions: Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam > Fisika - S1
Depositing User: Mr. Ramli Ramli
Date Deposited: 10 Apr 2023 03:07
Last Modified: 11 Apr 2023 01:23
URI: http://repository.unp.ac.id/id/eprint/43273

Actions (login required)

View Item View Item
Universitas Negeri Padang Repository is powered by EPrints 3 which is developed by the School of Electronics and Computer Science at the University of Southampton. More information and software credits.